如果真的是7nm,那中芯国际和台积电的差距从7年下降到5年
但主要问题是中芯国际生产7nm芯片的设备依旧依赖进口,中芯国际生产线国产率只有10%
中国有没有自己的光刻机?有.上海微电子年底计划交货28纳米,还落后12年

XD
小道消息，我非业内人士，无法评价。
XD
看个热闹 ;)
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1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。
2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了极紫外光，目前应该在搓自己的那个400路光纤激光器和束分时照射装置，目前样机的效果是传统二氧化碳激光器的LPP光源的数倍。
3、清华和半导体基金则是路线最为创新、方式最为激进的SSMB-EUV路线，如果能够成功那会直接把上面两条路线杀的妈妈都不剩，但是其风险也可以说是最大的。。。目前产线已经在雄安开工了

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美国认为依靠中国永远不可能会有空间站，
美国认为依靠中国不可能有自己卫星导航系统
……
可怜数据狗，还天天意淫，活在靠手淫健身的世界里……

你猪脑子啊。上次跟你说过了，上微国产光刻机相当于asml2000i，是最先进duv，可以做7nm的。还落后12年，做梦呢？

噗～～～～你还是去造谣造谣中国人均排放量吧
🤣😂🤣😂😂😂😂

上海微电子交付的事28纳米光刻机，不是28纳米芯片。上海微电子的28纳米光刻机，通过多重曝光，是可以制造出7纳米芯片的。
现在芯片各种设备和原材料，大陆其实基本都有替代。唯一卡壳的地方是光刻机。如果上海微电子能够按照预期在年底量产28纳米光刻机，大陆基本就成了。完全可以全国产7纳米芯片。
至于EUV 光刻机，各种零部件基本也搞出来了，现在正在处于紧张的验证阶段。唯一卡壳的是光源。现在只能做到125瓦，距离量产的250瓦最低要求还有距离。参考ASM的经验，从125到250瓦，可能需要3-5年的时间，但是不排除中国是后来者，再说集全国之力来公关，提前，1-2年内甚至更早解决光源问题，也不是没用可能的。一旦EUV 光刻机解决，意味着芯片制造产业将变成大白菜，世界格局将会天翻地覆，美国压制中国的最后一张牌将会被抹掉。G2共治时代将会到来，天下将太平。

据说不是中芯国际代工的， 是中芯南方什么的， 不上市。

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