据日本经济新闻报道称，比较台积电以5纳米量产的“KIRIN 9000”(2021年) 和中芯国际以7纳米生产的“KIRIN 9010”(2024年)的处理器性能，发现差距不大。
清水展示的是成为2024年4月上市的华为最新款智能手机“华为 Pura 70 Pro”大脑的应用处理器（AP）和截至2021年的高性能智能手机应用处理器的两张半导体电路图。
最新的应用处理器“KIRIN 9010”由华为旗下的海思半导体设计，由中国半导体代工企业中芯国际(SMIC)负责量产。而2021年的应用处理器“KIRIN 9000”由海思半导体设计，台积电负责量产。
美国政府的警惕对象中芯国际采用的是线路线宽为7纳米(纳米是10亿分之1米)的技术，而台积电当时采用5纳米的量产制程，向华为供应处理器。
一般来说，如果线路线宽变窄，半导体的处理性能就会提高，半导体面积则会变小。据称中芯国际以7纳米量产的芯片面积为118.4平方毫米，台积电的5纳米芯片则为107.8平方毫米，面积没有太大差异，处理性能也基本相同。
虽然在良品率上存在差距，但从出货的半导体芯片的性能来看，中芯国际的实力已追赶到比台积电落后至3年。虽然线路线宽为7纳米，但可以发挥与台积电的5纳米相同的性能，因此可以分析出海思半导体的设计能力也进一步提高。
报道称，其中，中芯国际以7纳米制程发挥了与台积电5纳米相同的性能，这一事实影响巨大。随着把线路线宽缩小到极限的“微细化”的难度加大，在尖端领域的开发竞争中，台积电要想甩开中国大陆企业变得更加困难。
据日本经济新闻称，清水洋治详细分析了华为最新款智能手机，得出结论是：“到目前为止，美国政府的管制只是略微减慢了中国的技术创新，但推动了中国半导体产业的自主生产”。