上海初创公司“宇量昇”，实现了国产首台28纳米DUV光刻机的突破。中芯国际已经与宇量昇达成合作，成功完成了设备测试。别看它明面上是28纳米技术，实际通过多重曝光工艺，能生产7纳米，甚至5纳米芯片。宇量昇公司成立才三年，怎么就完成了中国芯片产业史诗级的突破？国产DUV光刻机一旦正式投产，对中美意味着什么？
宇量昇公司成立于2022年，虽然是初创公司，背后来头可真不小。宇量昇背后有两大股东，各持股50%。一是上海科技创业投资集团全资子公司创科微，意味着上海国资大力扶持，粮草管够。二是深圳的芯片设备企业新凯来。这家公司，是个啥来头？可以这么说，新凯来整合了国内顶级零部件供应商，让大半个芯片设备产业链，来托举宇量昇。
比如长春光机所控股的奥普光电，提供光刻机曝光系统。光学镜头顶级供应商永新光学，提供DUV光刻机的镜头模组体系。福晶科技，全球非线性光学晶体市占率80%的龙头企业，跟宇量昇一起开发了固体激光驱动光源。波长光电，为宇量昇提供关键零部件的光源镜片。背后站着一堆顶级大厂，宇量昇研发出的国产DUV光刻机，含金量也就不言而喻了。
国产DUV的突破，对中美至少有着三大意义：
一是，美国对华芯片封锁战略，注定失败。高端芯片一直是美国对华施压的关键筹码。像阿斯麦的先进光刻机，英伟达的高端AI芯片，全都被禁止对华出售。
很多人可能以为，美国锁死了光刻机与高端芯片，中国科技发展就很难突破了。实际不是那么回事，国产芯片需求大头，是28纳米以下的成熟制程。中国不仅能做到自给自足，还能大量出口，2024年出口金额突破万亿元大关。
现在国产DUV突破，芯片制程推进到5纳米，进一步“芯片自由”了。像手机、车机、AI乃至军工芯片，九成以上的芯片需求，都能实现国产化替代。美国所谓的封锁战略，很难再成为施压中国的筹码了。
二是，我们从技术层面，彻底超越美国了。很多人可能以为，美国的光刻机技术一定非常强。其实不是，美国压根就没法独立造出光刻机来。全世界能造出DUV光刻机的，只有荷兰的阿斯麦以及日本的佳能和尼康。中国现在也实现了DUV突破，含金量甚至比荷兰、日本更高。
因为他们制造光刻机的零部件，大多不是自己国产，而是西方产业链协作的结果。中国就不一样了，现在大量关键零部件已经实现了国产化。未来为了防止西方卡脖子，全国产化光刻机的目标，也必然会实现。
三是，中国突破EUV光刻机，应该也不远了。其实EUV光刻机的不少关键技术，已经被我们掌握了。
像哈工大团队，用全新的技术路线，研发出了13.5纳米极紫外光源技术，打破了西方的封锁垄断。长春光机所，攻克了高精度弧形反射镜系统，EUV多层膜等多个关键技术领域。另外像上海微电子，中科院光电所，深圳新凯来等大量科研团队，都在攻关EUV光刻机。
要不了几年，我们会像现在听到国产DUV突破一样，突然见证国产EUV光刻机落地的历史时刻。