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回复36楼:新中国芯片光刻工艺研究起步比美国稍晚。1965年中科院研制出65型接触式光刻机。1972年，武汉无线电元件三厂编写了《光刻掩模版的制造》，1976年就研制出芯片。可惜1994年，武汉无线电元件三厂破产改制去卖副食品了。1977年，我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生。1978年，又在GK-3的基础上开发了GK-4。1980年，研制成功第四代分步式投影光刻机，接近国际主流水平。那个时间点，ASML还不知道在哪里酝酿中。
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