谁是谁非?.都在赚流量.真正的蚀刻机已经在5纳米,在攻刻3纳米.光刻机可以到28纳米量产.可以做到7纳米芯片这已是事实.至于弯道或变道超车,理论的论文是有了.需要工程师实践,时间、时间、时间.讲白了是很简单,象雕刻师在木头上雕龙凤,但不是每一个人都可以同雕出龙凤.实验室是可以做到5纳米,量产商业化需要时间.不要勿信台湾和英语媒体鼓吹什么高深莫测.当理论论文已经出来了,只是要绕开这些专利比较麻烦.如果大家都不尊守国除规则,专利也就形同虚设.现在在布局的是下一代量子芯片.看谁先做到,第四次电子革命看的是万物互联.欧美根本做不到.只有中国和东南亚地区可以.

专利在国内算个屁，国内这么多年外国公司告国内公司抄袭的案例有一例胜诉的吗？光刻机是真的造不出来，跟专利一毛钱关系没有。即使造出来但是良品率低，就意味着毫无商业竞争力，只有用于军事的产品才可以不计成本，手机这种大众化产品这样玩是要把自己玩死的。