回复108楼:immersion式光刻机就是浸没式光刻机，采用ArF光源，也就是193nm波长的光源，这是第四代光刻机，这也标志着中国和ASML在光刻机上仅有1代的差距，上海微电子凭借此项制程工艺也将会直接赶超日本佳能、尼康厂商，成为继荷兰ASML后，全球第二先进的光刻机厂商巨头。

immersion litho 解决的是refractive index降低问题，意思是相同波长光源它做出来更清晰一点儿。。。。但是这个改变是一点，不是无限。本质上相当于你家买了带电瓶的自行车，但这玩意不代表你家买车了。。。Bragg law规定了解析度resolution核心还是得降低光源波长，这个是唯一的解决方案，没有bypass。再说EUV,高能短波长的monochromic 光源，怎么激发，怎么约束和对焦，怎么保持高强度和高均匀度，这些都是远超过immersion litho好几个量级的难度。所以，你就算能学会immersion litho，离EUV还很远，不是一代。。